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深藏不露,山西這個半導體項目明年將投產
2020-05-22 09:00:13
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據新華社報道,目前,北緯三十八度集成電路制造有限公司(以下簡稱“BWIC”)廠房基礎建設已經完成,正在驗收階段,預計明年年中可投產,年底可實現量產。


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圖片來源:新華社


此外,BWIC總經理蔣建對此表示,達產以后,如果芯片全部用于制造手機的話,每年可以制造3億多部手機的射頻模組芯片。


據了解,BWIC的“微波功率放大器芯片制造加工項目”和“射頻聲表面波濾波器芯片制造加工項目”入選2020年山西省級重點工程項目名單。

北緯三十八度集成電路制造有限公司(以下簡稱”BWIC”或公司)創(chuàng)立于2018年,位于山西省北緯三十八度的忻州市,是6英寸GaAs化合物半導體IC芯片的專業(yè)晶圓代工服務公司。

BWIC新建一條6英寸砷化鎵集成電路生產線,由具有化合物半導體生產研發(fā)豐富經驗的中日團隊管理及運營,能提供優(yōu)質的、高效能水平的贗配高電子遷移率晶體管(pHEMT)工藝技術。

該pHEMT工藝能應用射頻、微波和毫米波集成電路,主要包括智能手機、平板電腦、筆記本電腦等中的搭載的射頻功率放大器模塊、GPS低噪聲放大器和射頻開關等等。

BWIC 將吸收和引進先進水平的6英寸砷化鎵集成電路(GaAs IC)制備技術,采用目前掌握的行業(yè)領先工藝技術批量生產性能優(yōu)異的6英寸砷化鎵集成電路產品,用于射頻、微波和毫米波集成電路。

主要包括功率放大器、低噪聲放大器、RF開關等產品,為實現4G移動通信系統、無線WiFi系統、高速衛(wèi)星通信系統等必不可少的關鍵部件,并且在將來的5G移動通信系統、新興的汽車防撞系統、衛(wèi)星定位系統等領域具有廣闊的應用前景。

核心技術是0.25微米增強型AlGaAs/InGaAs pHEMT IC工藝,這工藝也包括金屬電阻、外延層電阻、MIM電容和背面通孔。為了滿足毫米波應用的要求,將來開發(fā)0.15微米增強型pHEMT IC工藝。


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引用自: 今日半導體

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